<var id="znnbz"><strike id="znnbz"></strike></var>
<cite id="znnbz"><span id="znnbz"></span></cite>
<cite id="znnbz"></cite>
<cite id="znnbz"><video id="znnbz"><thead id="znnbz"></thead></video></cite>
<cite id="znnbz"><video id="znnbz"><thead id="znnbz"></thead></video></cite>
歡迎光臨上海納騰儀器有限公司網站!
誠信促進發展,實力鑄就品牌
服務熱線:

13501903943

產品分類

Product category

相關文章

Related articles

產品展示 / products 您的位置:網站首頁 > 產品展示 > > 光刻機 > VIL1000激光干涉光刻機

VIL1000激光干涉光刻機

簡要描述:VIL1000激光干涉光刻機
VIL系列納米圖形系統(激光干涉光刻機)具有快速可重構光束傳輸、主動圖形穩定和精確樣品定位等強大功能。該系統可以通過使用標準2cm×2cm正方形或用戶定義形狀的圖案場進行重復曝光,在8英寸大面積上產生各種納米結構,例如1D光柵線和2D柱/孔圖案,周期從240 nm到1500 nm。

  • 產品型號:
  • 廠商性質:代理商
  • 更新時間:2022-12-15
  • 訪  問  量:924
詳情介紹
品牌其他品牌

VIL1000激光干涉光刻機

VIL1000激光干涉光刻機

c13b9b719a7a0ead015c2f731eff3583.png


be9e18f7cca6991366d1f0b6262af569.png


1、 可實現同一晶圓上不同納米結構的分區光刻;

2、 制作各種一維、二維納米圖案;

3、 最小線寬低于50nm;

4、 與其他同類設備的功能對比圖如下:



電子束直寫

激光直寫

紫外光刻機

激光干涉光刻機

設備示例




代表廠商

德國的RaithVistec, 日本的JEOLElionix

海德堡和Raith

Eulitha

InterLitho

代表性產品型號

Raith

EBPG Plus

海德堡

DWL 66+

Eulitha

PhableR 100

VIL1000


主要用途

高分辨率掩模版制造和納米結構的制備

對分辨率要求不高的掩模版制造和納米結構制備

分辨率適中的納米結構制備

大面積、低成本、高通量制備高分辨率周期性納米結構,用于微納光學、生物芯片等新興應用


刻寫的最小物理線寬

<10nm

~300nm

60nm

40nm

價格和維護成本

較低

自動化程度

全自動

全自動

部分手動

全自動

設備效率

需要掩模

特征尺寸調制難度

難,樣品需要重新刻寫

難,樣品需要重新刻寫

難,需要重新刻寫模板

容易,幾分鐘可實現








留言詢價

留言框

  • 產品:

  • 您的單位:

  • 您的姓名:

  • 聯系電話:

  • 常用郵箱:

  • 省份:

  • 詳細地址:

  • 補充說明:

  • 驗證碼:

    請輸入計算結果(填寫阿拉伯數字),如:三加四=7




国产麻豆成人传媒免费观看_日韩精品中文字幕在线观看_9191国语精品高清在线_国产综合色精品一区二区
<var id="znnbz"><strike id="znnbz"></strike></var>
<cite id="znnbz"><span id="znnbz"></span></cite>
<cite id="znnbz"></cite>
<cite id="znnbz"><video id="znnbz"><thead id="znnbz"></thead></video></cite>
<cite id="znnbz"><video id="znnbz"><thead id="znnbz"></thead></video></cite>